线上配资平台官网或许距离荷兰高傲的ASML向我们下跪的日子不远了！

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据悉，以“芯启未来，智创生态”为主题的2025湾区半导体芯片展（湾芯展），将于明天也就是10月15日至17日在深圳福田会展中心举办。对此深圳市有关官员予以了公开确认，届时半导体企业新凯来将参展，并会“给大家带来惊喜”。博主从网上了解到相关信息如下：

新凯来在光刻机研发方面取得了重要进展，其计划 2026 年实现 DUV 光刻机量产，采用 “干式 DUV 原型机 + SAQP 四次曝光” 路径逼近 5nm 节点。具体如下：

技术路径与目标：新凯来的技术路径以深紫外（DUV）光刻 + 自对准四重成像（SAQP）工艺为核心，剑指绕开 EUV 限制，实现 7nm/5nm 先进制程芯片自主制造，长期更布局 EUV 光源预研（13.5nm 等离子体光源），瞄准 3nm 以下制程。

1.DUV 光刻机进展：新凯来将在 2025 年 10 月 15-17 日的湾芯展上首次公开展示深紫外（DUV）光刻机原型机，该设备已进入中芯国际深圳产线验证阶段。其光源波长为 193nm ArF 准分子激光，套刻精度为 ±1.2nm，晶圆尺寸为 12 英寸，核心部件国产化率超 50%，2026 年目标提升至 70%。

2.相关合作与工艺应用：新凯来联合华为定义技术路线，与长春光机所合资成立长光集智，研发物镜组和反射镜系统。其 SAQP 工艺通过 “曝光 - 刻蚀 - 沉积” 循环，在未使用 EUV 的情况下实现 5nm 等效制程，该工艺已纳入中芯国际产线。

用人话通俗点讲，以上信息如果属实的话，意味着东大实现了高端芯片生产的重大突破并在相关领域获得自己的话语权！这在当下美国再次挥舞科技封锁大棒讹诈我们的敏感时刻，实在太振奋每个中国人的心了！真是国运来了档都档不住啊！

1.打破国外技术垄断：全球高端光刻机市场以前基本被欧美日企业垄断，尤其是荷兰的 ASML，它的 EUV 光刻机更是掌握着先进芯片制造的关键。新凯来研发出 DUV 光刻机，还能用 SAQP 工艺在不依赖 EUV 的情况下实现 5nm 等效制程，这就相当于在高端光刻机领域撕开了一个口子，打破了 ASML 等企业的长期垄断局面，让我国在芯片制造的关键设备上有了自己的话语权。

2.大幅降低芯片制造成本：新凯来的 SAQP 技术路线设备成本只有 ASML EUV 光刻机的 1/30，而且生产良率从行业平均的 35% 大幅提升到了 85%。

3.再也不怕欧美日的对我国的技术封锁和设备禁运。

4.推动产业链自主可控：新凯来的光刻机核心部件国产化率已经超 50%，2026 年目标提升至 70%，而且它还和国内很多企业合作，比如和长春光机所合资研发物镜组和反射镜系统，联合华为定义技术路线等。这能带动国内整个半导体产业链的发展，从光源、光学元件到各种材料等，让我国半导体产业链从 “被动跟随” 转向 “自主可控”。

5.提升我国在全球半导体领域的地位：新凯来的 DUV 光刻机量产时间表明确，技术路径也很有创新性，这标志着中国半导体设备产业从 “跟跑” 迈向 “并跑”。未来，新凯来还有望重塑全球半导体设备竞争格局，让我国在全球半导体领域有更高的地位和影响力。